Двулучевая электронно-ионная система сверхвысокого разрешения
Модель: Cross Beam XB 540
Производитель: Carl Zeiss, Германия
Год выпуска: 2015

Функции: Предназначен для микро- и наномодификации различных материалов. Исследование на микро- и наноструктур с высокой точность позиционирования и устойчивой системой зондирования. Реализуемые методы:-3D прототипирование – нанотомография -ионная и электронная литография- сканирующая зондовая микроскопия- электрические измерения.
Технические характеристики
Двулучевой электронно-ионный микроскопический комплекс Carl ZEISS Crossbeam 540 – Этот флагманский комплекс компании ZEISS поставлен впервые в России и оборудован наиболее современной приставкой ELPHY Multibeam компании RAITH, позволяющей управлять электронной и ионной колонной и осуществлять прецизионную нанолитографию элементов любой сложности. FIB-SEM станция для высокопроизводительной нанотомографии и производства наноразмерных устройств. Станция используется для высокопроизводительной нанотомографии и производства наноразмерных устройств. Комбинирование сигналов с нескольких высокоразрешающих детекторов позволяют получить максимальную информацию об образце. Станция является частью уникальной технологической среды производства элементов и устройств когерентной оптики – от прототипирования нанооптики до изготовления сложных технологических изделий с использованием точной механики и MEMS технологий. Ионная колонна с максимальным током до 100 нА и превосходной фокусировкой позволяет преодолеть разрыв между микро- и наноструктурированием. Также позволяет получать больше информации при меньшем времени подготовки образца, изготовления наноразмерных устройств и FIB-утонении. Двулучевая станция Carl ZEISS Crossbeam 540 – это объединение отличных характеристик ионной и электронной колонны при низких ускоряющих напряжениях в сочетании с током пучка до 100 нА. Комбинирование сигналов с нескольких высокоразрешающих детекторов позволяет получить максимальную информацию об образце.

Электронная колонна (GEMINI II) Тип катода: Шоттки 1.8 нм (1 kV) 0.9 нм (15 kV) 10 пА ÷ 300 нА Ионная колонна (Capella) Ресурс: 3000 мкА ч < 3 нм 1 пА ÷ 100 нА Детекторы SE2(ETD), Inlens SE, 4QBSD Размер изображения 32 000 х 24 000 пикселей Предметный столик X = 100 мм, Y = 100 мм Z = 50 мм, Z' = 13 мм T = -4° ÷ 70° Электронно- и ионно- лучевая литография Raith ELPHY Multibeam Система газовой химии Pt, C, H2O, SiOX, XeF2 Дополнительные опции 3DSM, 2 манипулятора Kleindiek
Перечень применяемых методик измерений
  • высокоразрешающая электронная микроскопия (SEM, BSE) (стоимость от 2200 руб/ч.)
  • создание структур и модификации поверхности образца посредством ионной и электронной литографии (стоимость от 5700 руб/ч.)
  • химическое осаждение и оптимизация ионного травления
  • реконструирование поверхности образца (3DSM) (стоимость от 4300 руб/ч.)
  • микро- и нанотомография – 3D реконструирование объема образца
  • высококачественная пробоподготовка срезов и ламелей (стоимость от 10000руб/образец)