Функции: Создание многослойных тонкопленочных структур с уникальными свойствами - сплавы Гейслера, мультиферроики, магнито-плазмонные и спин-вентильные структуры, а также бифазные микропровода.

Описание: Установка предназначена для получения тонких плёнок материалов путём их осаждения с мишеней на подложки различного состава под действием высокоэнергетичной плазмы.

Основные технические характеристики:

• Возможность единовременного осаждения с 1-5 мишеней
• Возможность осаждения оксидов и нитридов элементов при подаче реактивного газа
• Возможность нагрева подложки до 850°С до и во время осаждения
• Предел давления, получаемого в рабочей камере: 10^-8 Торр