Назначение: Метод спектральной эллипсометрии позволяет быстро измерять значения толщин и оптических характеристик (n, k и др.) пленок, а также проводить анализ равномерности слоев по образцу (пластине). Используется оптимизационный метод решения обратной задачи эллипсометрии. Прибор позволяет получать информацию об оптических характеристиках и толщинах пленок, пропускающих излучение в диапазоне от 440 до 848 нм, в том числе тонких металлических пленок до ~ 50 нм толщиной.

Технические характеристики: Технические характеристики: диапазон длин волн 440-848 нм; оптимальный размер области измерения 70×250 мкм и более; фиксированный угол падения 70°; точность определения показателя преломления n ~ 0,002.