Технические характеристики:

• Размеры камеры ДхШхВ не менее 1000х1000х600мм;
• Площадь покрытия составляет 4000 см2;
• Рабочее давление в камере не менее 5 х 10-5 Па;
• Вакуумная система откачки с турбомолекулярным насосом, производительностью не менее 1000 л/с;
• Скорость осаждения материала достигает 30 Å/с;
• Система прогрева рабочей камеры для высоковакуумных применений до 1000 С.
• Формирование на подложках тонкопленочных покрытий: серебра (Ag) со скоростью не менее 200 нм/мин; оксида кремния (SiO2) со скоростью не менее 10 нм/мин, при этом, температура подложки во время напыления не превышает 50 oC.
• Размеры загружаемых образцов до 900× 300 мм.
• PLC контроллер.

Функции: Создание биоактивных и биосовместимых покрытий. Вакуумная установка магнетронного напыления большой площади является универсальной напылительной установкой с возможностью частичной модификации и изменения функционала под требования пользователя. На данном типе оборудования возможна реализация магнетронного распыления с одного магнетрона. Существует также набор опций, позволяющий расширить возможности базовой комплектации: установка источника ионов для чистки и активации поверхности, различные варианты оснастки под образцы (в том числе и перемоточный механизм).

Методики: магнетронное напыление.

Перечень работ:

• нанесение тонких металлизированных покрытий на ткани с использованием высокочастотного источника магнетронного распыления;
• разработка и оптимизация процессов формирования тонкопленочных наноструктурированных покрытий.

Ответственное лицо: Гойхман Александр Юрьевич, email: AGoikhman@kantiana.ru
Инв. 340000310